半导体光掩膜供不应求仍在持续。
消息人士称,韩国光掩膜制造商Toppan,、Photronics和Dai Nippon Printing工厂开工率均维持在100%,一些中国芯片公司甚至支付额外费用以缩短交货时间。
掩模版(Mask)是用于光刻工艺中的一种材料,也称为光掩膜。它是一个透明的基板,上面覆盖着由光刻技术制作的图案。在半导体制造工艺中,掩模版被用来投射光线到半导体晶片表面,从而在光敏光刻胶上形成所需的图案和结构。掩模版的图案是根据所需器件的设计要求制作的,通过掩模版上的图案,光刻工艺可以在半导体晶片上精确地形成微小的结构和电路。因此,掩模版在半导体制造过程中起着至关重要的作用。
民生证券方竞研报认为,随着我国半导体产业占全球比重的逐步提升,我国半导体掩膜版市场规模也逐步扩大,国内掩膜版行业的景气度有望持续旺盛,厂商有望迎来业绩的高速增长。
半导体掩膜版为掩膜版最大细分市场
从应用结构来看,半导体芯片和平板显示是主要的两大应用领域,其中半导体芯片占比为60%,平板显示领域占比为28%。
2022年半导体掩膜版市场规模达到75.82亿元
半导体芯片掩膜版占掩膜版行业市场规模的60%,以此测算。2017-2021年,半导体芯片掩膜版市场规模整体呈波动上升趋势,2020年有所下降,2021年回升至64.80亿元,同比增长9.80%。初步测算,2022年我国半导体芯片市场规模约为75.82亿元。
随着我国半导体芯片行业、平板显示行业、触控行业等下游应用领域的产品迭代升级加速,掩膜版行业景气上行。依据台湾产业报道,低规格掩膜版交货时间预计翻倍,韩媒预计2023年光罩(掩膜版)价格再涨10%-25%。掩膜版确定性溢价明显,国产替代需求迫切,预计到2028年,我国掩膜版市场规模将达到360亿元。
前瞻经济学人APP资讯组
更多本行业研究分析详见前瞻产业研究院《2023-2028年中国掩膜版(光刻掩膜版)行业发展前景预测与投资战略规划分析报告》
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