1μm=1000nm！大族激光称在研光刻机分辨率达3-5μm，离高端水平差距还很大

大族激光8月10日在互动平台表示，公司在研光刻机项目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等方面的应用，目前已接到少量订单。

光刻机是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。而光刻机是中国芯片发展的最大障碍。

企查猫资料显示，大族激光科技产业集团股份有限公司成立于1999年3月4日，注册资本106,706.5245万元人民币，法定代表人为高云峰。

众所周知，高端芯片制造所需的光刻机一直以来被荷兰ASML公司垄断，一台精密光刻机售价上百亿，而我国半导体行业起步较晚，光刻机技术与ASML的差距非常大。

ASML在7nm级别，而大族激光仅为μm级别(1μm是1000nm)。因为光刻机每上一个台阶技术难度就会大大增加，可能从90nm升级到65nm并不难，但是从65nm升级到45nm，就是一个技术节点了，上升到7nm更是难上加难。

据有关媒体报道，光刻机正成为华为的第四场战役。据悉，余承东在一次百人大会上的时候透露过，早在四年前，华为就已经为接下来集团的布局做好准备了，他们在2016年的时候就已经成立了团队去研发光刻机，现在已经取得了很大的进展。